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潔凈車(chē)間的溫濕度主要是根據(jù)工藝要求來(lái)確定，但在滿足工藝要求的條件下，應(yīng)考慮到人的舒適度感。隨著空氣潔凈度要求的進(jìn)步，呈現(xiàn)了工藝對(duì)溫濕度的要求也越來(lái)越嚴(yán)的趨勢(shì)。具體工藝對(duì)溫度的要求今后還要羅列，但作為總的原則看，因?yàn)榧庸ぞ仍絹?lái)越精細(xì)，所以對(duì)溫度波動(dòng)規(guī)模的要求越來(lái)越小。例如在大規(guī)模集成電路出產(chǎn)的光刻曝光工藝中，作為掩膜板材料的玻璃與硅片的熱脹大系數(shù)的差要求越來(lái)越小。直徑100um的硅片，溫度上升1度，引起了0.24um線性脹大，所以必須有±0.1度的恒溫，一起要求濕度值一般較低，因?yàn)槿顺龊菇窈?，?duì)產(chǎn)品將有污染，特別是怕鈉的半導(dǎo)體車(chē)間，這種車(chē)間溫度不宜超越25度，濕度過(guò)高產(chǎn)生的問(wèn)題更多。相對(duì)濕度超越55%時(shí)，冷卻水管壁上會(huì)結(jié)露，如果發(fā)生在精細(xì)設(shè)備或電路中，會(huì)引起各種事端。相對(duì)濕度在50%時(shí)易生銹。此外，濕度太高時(shí)將通過(guò)空氣中的水分子把硅片外表粘著的灰塵化學(xué)吸附在外表難以清除。相對(duì)濕度越高,粘附的越難去掉，但當(dāng)相對(duì)濕度低于30%時(shí)，又因?yàn)殪o電力的作用使粒子也簡(jiǎn)單吸附于外表，一起很多半導(dǎo)體器件簡(jiǎn)單發(fā)生擊穿。對(duì)于硅片出產(chǎn)更佳濕度規(guī)模為35—45%。